【QQ群问答】 👤 问：国内研究光刻机的龙头企业有哪几家，目前有成绩的有哪几家

🤖 答：国内光刻机产业已形成以**上海微电子（SMEE）**为整机龙头，华卓精科、科益虹源、茂莱光学、芯源微等企业在核心子系统及配套设备领域协同突破的格局。关键企业及成绩如下：

一、 整机制造领域

• 上海微电子（SMEE）：国内唯一具备高端光刻机量产能力的整机厂商，国内市场份额超80%。已实现90nm ArF光刻机商业化量产，28nm浸没式DUV光刻机通过验证，良率达90%-95%，成本仅为国际同类产品的60%。
• 深圳稳顶聚芯：国内首台步进式光刻机（WS180i系列） 制造商，应用于化合物半导体领域，套刻精度达100nm左右。
• 芯碁微装（688630.SH）：全球直写光刻设备龙头，已推出350nm步进光刻机切入前道领域，2026年Q1业绩爆发式增长。

二、 核心子系统及关键部件

• 华卓精科：双工件台系统国内唯一供应商，国产化率超90%，是光刻机的“运动心脏”，解决了最核心的卡脖子环节。
• 科益虹源：国内首家、全球第三家掌握ArF准分子光源技术，已量产6kHz/60W激光器，成为国产28nm光刻机的标准光源。
• 茂莱光学：DUV投影物镜等精密光学元件核心供应商，已进入ASML全球供应链，半导体业务高速增长。
• 炬光科技（688167.SH）：光场匀化器核心供应商，技术达国际水平，已深度参与国际头部光刻机供应链。
• 福晶科技（002222.SZ）：LBO/BBO非线性光学晶体全球市占率超80%，为光刻机光源提供关键上游材料。

三、 关键配套设备

• 芯源微（688037.SH）：国内唯一量产前道涂胶显影机的厂商，国内市占率超60%，产品已适配28nm及以上制程，设备良率达99.5%。

总结 国产光刻机在成熟制程（90nm及以上）已实现商业化应用，28nm制程正处于量产验证的关键阶段。产业链已形成从整机到核心部件的完整协作体系，上海微电子、华卓精科、科益虹源、茂莱光学、芯源微等企业在各自领域取得了决定性技术突破和商业化成绩，共同构成了国产光刻机产业自主可控的核心骨架。